常壓等離子噴槍清洗原理

文章出處：等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發表時間：2024-11-29

等離子體是指被電離的氣體，它與固態、液態和氣態物質比較有不同的物理和化學性質，常被稱為物質的第四態。由于等離子體中存在大量電子、正離子、自由基、亞穩態的分子和原子等，當等離子體與被清洗物質表面相互接觸時，會產生物理刻蝕、化學分解等物理和化學過程，從而分解或清除污染物。

常壓等離子體噴槍

常壓等離子體噴槍裝置，包括等離子電源、供氣源、電極、等離子體放電區間和噴口等如圖1所示。

常壓等離子噴槍結構示意圖

常壓等離子體噴槍是由一個圓柱體的金屬射頻電極和圓筒狀的金屬地電極構成，在圓柱體電極和圓筒地電極之間有一個圓筒狀的放電縫隙，在電極的一端用絕緣材料密封，另一端設有一個噴口，當工作氣體通過該電極之間的縫隙時被擊穿電離形成等離子體，在氣體壓力推動下，從口向外噴出。從噴口向外噴出的等離子體束流的長度取決于放電功率和進氣量。供氣源可以根據被清洗污染物的特點進行選擇。

常壓等離子體噴槍清洗原理

由于在等離子體噴槍的噴口處包含有大量電子、離子、自由基和亞穩態的分子和原子，當該等離子體束流成分與被清洗的物質接觸時，會發生干化學反應，從而清洗掉污染物。
圖2是氫等離子體和氧等離子體分別清洗氧化物和有機物的干化學過程。氫等離子體與氧化物作用，把氧化物分解成水，氧等離子體與有機物作用，把有機物分解為CO2,。兩個清洗過程所生成產物是H20和CO2，無任何液體廢物排放，不存在二次污染。

(a)干化學氧化物清洗工藝;(b)干化學有機物清洗工藝

等離子體清洗過程

從反應機理來看，清洗過程包括:(1)無機氣體被激發到等離子態;(2)氣相物質被吸附在固體表面;(3)被吸附基團與固體表面分子反應生成了產物分子;(4)產物分子解析形成氣相;(5)反應殘余物脫離表面。
從反應方式來看，清洗過程包括化學反應與物理反應兩種清洗過程。
(1)化學過程:在化學等離子體過程中，自由激進分子與待清洗物表面的元素發生化學反應。這些反應產物是非常小的易揮發分子，可以用真空泵抽出。在有機物清洗應用中，主要的副產物包括H2O、CO和CO2。
有機物(CxHyOz)+02→H20+CO2+CO
以化學反應為主的等離子體清洗，清洗速度快、選擇性好、對去除有機污染物最為有效，缺點是會在表面產生氧化。典型的是采用氧氣等離子體。
(2)物理過程:物理過程中，原子和離子以高能量、高速度轟擊待清洗物表面，使分子分解。
以物理反應為主的等離子體清洗，本身不發生化學反應，清洗表面不留下任何化物。