40KHz中頻等離子清洗機和13.56MHz高頻等離子清洗機的區別

40KHz中頻等離子清洗機的作用主要為物理撞擊反應，其撞擊力度大，對被清洗表面影響最大；13.56MHz射頻等離子清洗機主要為物理加化學反應（需要采用氧氣、氫氣、氬氣等氣體，如采用單獨氬氣則為單獨物理反應），其撞擊力度適中，可以去除零件表面殘留的灰塵、一般氧化層等雜質。

40KHz中頻等離子清洗機和13.56MHz高頻等離子清洗機的區別

文章出處：等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發表時間：2022-05-01

等離子清洗是一種干法物理化學清洗技術。它是利用低真空狀態下工藝氣體因電場的作用，產生輝光放電，將工藝氣體電離成離子流，轟擊工件表面，使其產生物理化學反應，達到清洗目的。等離子清洗機按其等離子激發頻率可分為：中頻(40KHz)、高頻(13.56MHz)和微波(2.45GHz)三種等離子清洗機，隨著頻率的升高，離子濃度增大，離子能量下降。中頻40KHz等離子清洗機主要應用于污染較重，且不易受到損傷的元件(如外殼、成膜基板、焊片等)，其中主要是離子的物理撞擊作用(物理清洗)，化學清洗作用其次。微波等離子清洗機主要應用于敏感器件(半導體芯片，特別是微波器件)，這時主要是離子化學反應。而13.56MHz射頻等離子清洗機的應用則介于上述兩者之間，兼具化學和物理清洗。

13.56MHz射頻等離子清洗機與40KHz中頻等離子清洗機的區別如下：

目前市面所售的等離子清洗機有低頻放電方式，頻率為40KHz，低頻放電符合輝光放電的特性，與射頻放電相比，電流很小，不存在阻抗匹配的問題，結構簡單，多為電容耦合結構，因此電極的二次污染問題仍然存在。

高頻放電的頻率一般為10M～100MHz，這一頻率屬于無線電頻譜范圍，因此又稱為射頻(RF)放電，根據國際通用的規則射頻放電的頻率為13.56MHz。射頻放電能產生和維持高密度、連續、均勻的等離子體，高頻放電時，由于頻率很高，帶電粒子在電場周期內還未運動到極板，電場就發生了改變，帶電粒子在電場作用下向反方向移動，如此往復形成振蕩，因為粒子的運動行程很長，增加了與氣體分子碰撞的機率，電離度比直流輝光放電高出幾個數量級，而且可以在較低的電壓下維持。射頻放電在較高和較低的氣壓下都能放電，在工業中有不同應用。與直流放電相比，射頻放電有以下優勢：
1. 較低的氣壓條件下仍能放電，放電維持能量低，由于帶電粒子在極間做往復運動，大大增加了電離機率，因此在較低的氣壓條件下仍能夠維持放電，形成穩定的等離子體，最低壓強可達10-1Pa。
2. 射頻放電的粒子運動機制決定了具有較高的電離度。
3. 等離子體分布均勻。

綜上所述40KHz中頻等離子清洗機的作用主要為物理撞擊反應，其撞擊力度大，對被清洗表面影響最大；13.56MHz射頻等離子清洗機主要為物理加化學反應（需要采用氧氣、氫氣、氬氣等氣體，如采用單獨氬氣則為單獨物理反應），其撞擊力度適中，可以去除零件表面殘留的灰塵、一般氧化層等雜質。