真空等離子清洗機清洗原理

真空等離子清洗機的清洗原理，主要依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應機理來看，等離子體清洗通常包括以下過程：無機氣體被激發為等離子態；氣相物理被吸附在固體表面；被吸附基團與固體表面分子反應生成產物分子；產物分子解析形成氣相；反應殘余物脫離表面。

真空等離子清洗機清洗原理

文章出處：等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發表時間：2022-05-23

等離子體又稱為電漿，是由以下物質狀態組成：處于高速運動狀態的電子；處于激活狀態的中性原子、分子、原子團(又稱自由基)；離子化的原子、分子：分子解離反應過程中生成的紫外線；未反應的分子、原子等；該物質集合體在總體上保持電中性狀態，是除固態、液態、氣態之外物質存在的第四態——等離子態。

真空等離子清洗機清洗原理

等離子的產生是高壓高頻能量在真空腔體內被激活和被控制的輝光放電中產生了低溫等離子體，當等離子體與被處理物體表面相遇時，產生了化學作用和物理變化，表面得到了清潔，去除碳化氫類污物，如油脂、輔助添加劑等，根據材料成分，其表面分子鏈結構得到了改變。

真空等離子清洗機的清洗原理，主要依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應機理來看，等離子體清洗通常包括以下過程：無機氣體被激發為等離子態；氣相物理被吸附在固體表面；被吸附基團與固體表面分子反應生成產物分子；產物分子解析形成氣相；反應殘余物脫離表面。

等離子體與材料表面產生的反應主要有兩種：一種是靠等離子做物理反應(physicalreaction)，另一種是靠自由基來做化學反應(chemicalreaction)。

真空等離子清洗機清洗原理

真空等離子清洗機與材料表面物理清洗原理
等離子體與材料表面產生的物理反應主要是利用離子作純物理的撞擊，把材料表面的原子或附著材料表面的離子打掉，由于離子在壓力較低時的平均自由基較輕長，有能量的積累，因而在物理撞擊時，離子的能量越高，越容易產生撞擊，所以若要以物理反應為主時，就必須控制較低的壓力下來進行反應，這樣清洗效果較好。

真空等離子清洗機與材料表面化學清洗原理
等離子體與材料表面產生的化學反應主要是利用等離子體里的自由基來與材料表面做化學反應，在化學反應里常用的氣體有氧氣、氫氣、甲烷等，這些氣體在電漿內反應成高活性的自由基，自由基的作用表現在化學反應過程中能量傳遞的“活化”作用，處于激發狀態的自由基具有較高的能量，易于與物體表面分子結合時會形成新的自由基，新形成的自由基同樣處于不穩定的高能量狀態，很可能發生分解反應，在變成較小分子同時生成新的自由基，這種反應過程還可能繼續進行下去，最后分解成水、二氧化碳之類的簡單分子。在這些情況下，會釋放出大量的結合能，這種能量成為引發新的表面反應推動力，從而引發物體表面上的物質發生化學反應而被去除。

以上就是國產等離子清洗機廠家納恩科技關于真空等離子清洗機清洗原理的簡單介紹，等離子清洗屬于固氣干式清潔技術，采用氣體作為清洗介質，有效地避免了因液體介質清洗對被清洗物帶來的二次污染。