真空等離子清洗機主要結構組成

文章出處：等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發表時間：2022-05-05

真空等離子清洗機一般使用傳統的電容耦合式等離子清洗機結構，即內平行極板。系統由三大部分組成包括真空系統、放電系統和控制系統。其中放電系統由放電腔體、平行極板、工件支座和電源及匹配網絡組成，真空系統由真空泵、充氣系統、密封件、閥門、壓強感應器組成，真空泵抽取真空并維持反應室內氣壓平衡，壓強感應器測量反應時的壓強。反應腔體要求反應室真空密封同時具備輻射防護。充氣系統由氣管、流量計和閥門組成，目的是定量向反應室充入反應氣體。電源使用的是固態射頻電源，具有高可靠性和穩定性、高效的功率輸出、體積小、重量輕、完善的保護功能可實現過溫、反射功率保護。控制系統可實現電源輸出功率、放電時間、氣路開關的控制。

等離子清洗機主要結構組成

反應倉
采用平板式結構,利于等離子體均勻分布。

射頻電源
等離子體發生器的選擇與其頻率的選擇是確保等離子質量和過程靈活性的兩個最重要的參數。對于清洗中的應用,射頻發生器的頻率是標準,它確定能否很好的將氣體激發為等離子態。13.56MHz是最常用的頻率。與射頻發生器相關聯的還有匹配網絡,如果阻抗負載不能精確調節,射頻發生器將會被損壞,這是由于承受波的反饋的原因。匹配性的調節在獲得好的清洗效果中是必要的。合適的匹配系統與高品質的射頻發生器將會自動調節負載阻抗,甚至當清洗的條件與操作都發生變化的情況下也能做到。這保證了最佳的等離子體密度和可重復性。

真空系統
等離子體系統內的壓力受幾個因素的影響,其中最重要的一個原因是真空泵。在任何給定的真空系統,最大真空度會被真空泵的能力所限制。典型情況下壓力在10～100Pa。

供氣系統
在等離子體過程中為了保證最大的重復性,需要一些控制氣體流量的裝置,尤其是對反應氣體。典型情況為:流量在0～200SCCM。

控制系統
采用帶有觸摸屏人機界面的PLC來控制等離子體電源的各項參數以及各個輸入輸出設備,優點在于人機界面友好、靈活性高、穩定可靠,減少人為產生的失誤。同時便于在不斷的工藝實驗過程中通過軟件來持續提升設備性能。對于工藝管理使用配方方式,方便于各個參數的輸入與管理。

真空等離子清洗機的結構一般由電器控制及操作系統、真空腔室、供氣系統、射頻電源、真空泵、等組成。等離子清洗技術是利用等離子體中各粒子的能量，通過化學或物理方式作用于物體表面，改善物體表面狀態的工藝過程。