等離子清洗機在OLED顯示屏行業中的應用

文章出處：等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發表時間：2023-03-08

隨著OLED顯示屏行業的發展，對清洗工藝及設備的要求越來越嚴格，制造過程的清洗皆為精密清洗，為了達到良好的清洗效果，必須不斷提高潔凈技術。等離子清洗機可在高真空度狀態下通過射頻電源起輝產生等離子體，從而對基底表面同時進行物理和化學的雙重清洗，使基底表面的物質變成氣態粒子，經真空泵抽氣排出，從而達到清洗的目的，它可以完成常規清洗手段所無法達到的任務，不僅可以清除有機污染物、油脂等，還能夠改變ITO表面的功函數，改善材料表面的潤濕能力，有利于傳輸層溶液的鋪展與旋涂。

有機發光二極管（organic light emittin gdiode，OLED）是一種電流型的有機發光器件，通過載流子的注入和復合而發光的現象。在電場的作用下，陽極產生的空穴和陰極產生的電子就會發生移動，分別向空穴傳輸層和電子傳輸層注入，遷移到發光層。當二者在發光層相遇時，產生能量激子，從而激發發光分子最終產生可見光。整個器件結構層中包括：空穴傳輸層（HTL）、發光層（EL）和電子傳輸層（ETL）。其制備工藝可以分為小分子OLED工藝技術和聚合物PLED工藝技術兩大類。小分子OLED通常采用蒸鍍技術進行制備；PLED一般采用溶液涂布的方式。OLED顯示技術具有自發光、廣視角、幾乎無窮高的對比度、較低耗電、極高反應速度等優點，近些年得到了非常快速的發展。

盡管OLED有諸多優點，但是在制備過程中仍需要克服一些加工問題，其中最為關鍵的即為清洗。例如，在玻璃基板加工前需要對其表面進行清洗，如果玻璃表面帶有污染物，其表面自由能變小，從而導致蒸鍍在上面的空穴傳輸層發生聚集，導致成膜不均；在整個光刻工藝過程中，清洗仍然是首個步驟，只有清洗干凈后，才能保證光刻過程的順利進行。在OLED制備整個過程中，會涉及多步清洗，隨著屏幕要求越來越高，線路越來越細，對清洗的要求也越來越高，特別是細小顆粒（1μm）的控制，這意味著清洗技術在OLED制備過程中至關重要。

清洗的分類

清洗過程分類方法較多，針對OLED清洗常用的分類方法為濕法清洗和干法清洗。顧名思義，濕法清洗主要通過清洗設備配備去離子水、有機溶劑或者一些特定的清洗劑來完成基材表面凈化的過程，該過程往往需要后續的干燥；干法清洗是指利用機械設備配備高壓氣流、臭氧、激光、等離子體、紫外線等方法來清潔基材表面的方法。

與濕法清洗不同，干法清洗一般需要利用加壓或者抽真空的方式來達到清洗目的，清洗可以實現精準控制且清洗比較徹底，不會引入二次污染，受到越來越多的關注。

等離子清洗機

等離子清洗機是通過電源激發等離子體轟擊基材表面，在轟擊的過程利用物理沖擊可以去除吸附在基材表面的微顆粒，同時可能造成基材表面的微刻蝕；因此可以用于基材的超精密清洗。等離子體在轟擊基材表面的污染物時，還可以與污染物進行反應，形成容易揮發的物質，利用真空抽走，對基材表面的有機物殘留具有較好的去除作用。等離子體清洗的最大特點是：大部分處理對象的基材類型，均可以進行處理。

在OLED器件制備過程中，陽極形成的ITO層表面極易吸附外來原子，使表面產生污染。另外，環境空氣中還會存在大量水分，由于金屬氧化物表面被切斷的化學鍵為離子鍵或強極性鍵，易與極性很強的水分子結合，因此，ITO的表面非常容易被水氣污染。

氧等離子不僅可以改變ITO表面的化學組成，還可以去除表面含有的碳，對OLED器件性能具有較好的提升作用；而氬等離子體雖然不能改變器件表面的化學組成，但是可以對表面清潔，同時去除吸附在器件表面的氧，提升器件性能。